2019年4月22日，伊利諾伊州萊爾

FDP光纖衰減圖

伊利諾伊州萊爾——2019年4月22日—— Amphenol安費諾連接器的子公司Polymicro Technologies最近宣布對其FDP光纖進行改進。最新的增強提高了光纖在深紫外應用(190 - 325納米)的日曬性。

“光纖FDP的引入徹底改變了UV的應用。我們很高興為客戶帶來增強的FDP纖維，具有更好的質(zhì)量，以抵御紫外線的暴露，”Teodor Tichindelean說，全球產(chǎn)品經(jīng)理，Polymicro技術(shù)。

多微硅芯光纖FDP具有超高的紫外透射率和超低的紫外日曬率，具有優(yōu)異的抗輻射性能。FDP光纖工作在190納米以下，具有優(yōu)良的抗深紫外日曬特性，已成為深紫外地區(qū)應用的首選光纖。新的FDP光纖提供了更大的耐日曬性，以維持更長時間的傳輸，同時盡量減少對光纖的損傷。

對于應用于深紫外區(qū)域，高水平的紫外線輻射會導致光纖和傳輸性能惡化。纖維通常在數(shù)小時后失去傳輸能力。Tichindelean補充說:“與以前的版本相比，改進后的FDP光纖在初始退化后提供了大約10%的光輸出。”“對于Polymicro的客戶來說，這意味著更好的光發(fā)射和更長的產(chǎn)品壽命。”

提供尺寸控制和嚴格的公差，多微FDP光纖提供了一系列的選擇，包括定制的核心尺寸，涂層，緩沖器和組件。Amphenol安費諾連接器和Polymicro設備通過ISO 9001、13485和14001認證。有關(guān)Polymicro解決方案的更多信息，請訪問欲了解更多有關(guān)Amphenol安費諾連接器其他產(chǎn)品和行業(yè)解決方案的信息，請登錄我們的電子新聞通訊Amphenol安費諾連接器